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所谓 溅射 是用荷能粒子（通常用气体正离子）轰击物体，从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象，早在1842年Grove在实验室中发现了这种现象。 磁控溅射靶采用静止电磁场，磁场为曲线形，均匀电场和对数电场则分别用于平面靶和同轴圆柱靶。 电子在电场作用下，加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，若电子具有足够的能量（约为30ev）时，则电离出Ar+并产生电子，电子飞向基片，Ar+在电场作用下，加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。 本公司拥有最完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和进的生产工艺。 提示：以上信息ITO实验型镀膜机，ITO实验型镀膜设备的详细介绍，产品图片，如有兴趣，可直接联系商家，获取ITO实验型镀膜机，ITO实验型镀膜设备的具体资料，请说明是在慧聪网看到的。

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